GW級雙面微晶異質(zhì)結(jié)高效電池制造整體解決方案
憑借持續(xù)不斷的自主研發(fā)，邁為股份率先實現(xiàn)了異質(zhì)結(jié)電池整線裝備的國產(chǎn)化。最新一代整體解決方案單線年產(chǎn)能達1.2GW，完整覆蓋了異質(zhì)結(jié)電池生產(chǎn)的四道工序，通過大片化、薄片化、半片化制程， 結(jié)合創(chuàng)新PECVD雙面微晶工藝路線，集成整線MES智能片級追蹤系統(tǒng)，提升太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率、 良率、產(chǎn)能，同時降低生產(chǎn)成本。
雙面微晶技術(shù)的應用可以讓電池片透光性更好、導電性更佳，有效提升異質(zhì)結(jié)電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
雙面微晶技術(shù)的應用可以讓電池片透光性更好、導電性更佳，有效提升異質(zhì)結(jié)電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
工序流程
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01制絨清洗
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02硅基薄膜沉積(PECVD)
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03透明導電薄膜沉積（PVD）
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04絲網(wǎng)印刷
方案優(yōu)勢
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制絨清洗設備可兼容多種工藝路線， 可集成背拋工藝+ACP， 高效添加劑， 先進節(jié)水方案進一步降低水耗
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PECVD設備全自動完成雙面鍍膜、 在線準動態(tài)鍍膜， RPS自清洗，產(chǎn)能高， 無需行車
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PVD設備連續(xù)完成正背面TCO鍍膜， 產(chǎn)能高，12個工藝單元(PU), 兼容低銦疊層需求， 無需行車，靶材利用率高達80%
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絲網(wǎng)印刷設備平鋪式固化，集成光注入；高精度高準確度高速度絲網(wǎng)印刷 ；大幅提升電池片產(chǎn)能及良率
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自動化硅片接觸最少，環(huán)境控制， 集成在線檢測
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強大的MES中控系統(tǒng)可進行數(shù)據(jù)采集、產(chǎn)線監(jiān)測、 產(chǎn)線管控、統(tǒng)計分析，實現(xiàn)量產(chǎn)片級跟蹤，追溯每片電池的生產(chǎn)過程
工序一：制絨清洗
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制絨清洗設備 HJ-TEX-182/210
該套設備用酸堿藥液將硅片表面刻蝕成金字塔紋理結(jié)構(gòu)，再進行清洗、烘干。制絨清洗可去除切割損傷層、去除污染、形成起伏不平的絨面、增加光的吸收。
設備參數(shù)
設備優(yōu)勢
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兼容大尺寸硅片、薄片、半片，產(chǎn)能大且充分客制化
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工藝可控度高（定排定補）
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機臺內(nèi)環(huán)境控制嚴格
（酸堿隔離、FFU、除靜電等) -
數(shù)據(jù)采集完整
（lot log、ID追蹤、記錄曲線等）
工藝流程
補充說明
可提供配套槽式清洗設備、鏈式清洗設備、返工清洗設備。
工序二：硅基薄膜沉積（PECVD）
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PECVD鍍膜設備 Maxwell MV-LH07K
一套在線多腔體準動態(tài)PECVD設備，在單晶硅片正背面沉積本征非晶硅和摻雜納米硅薄膜層。
設備參數(shù)
設備優(yōu)勢
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Inline多腔體準動態(tài)PECVD鍍膜技術(shù)
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分層高品質(zhì)非晶硅鈍化鍍膜技術(shù)
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PECVD采用獨特曲面showerhead放電陰極設計結(jié)構(gòu)
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大尺寸、輕載荷、低熱膨脹系數(shù)、高平面度的復合載板設計
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Inline耐腐蝕磁流體真空傳送大尺寸載板
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RF快速啟輝設置及輝光實時監(jiān)控
工藝流程
工序三：透明導電薄膜沉積（PVD）
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PVD鍍膜設備 MW-PVDP7A
一套臥式在線磁控濺射連續(xù)鍍膜設備，通過靶材濺射與沉積來制備透明導電薄膜，可同時進行雙面鍍膜。
設備參數(shù)
設備優(yōu)勢
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單臺設備年產(chǎn)能高達約1.2GW
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HJT 高效電池PVD鍍膜專用大尺寸、輕載荷、低熱膨脹系數(shù)、高平面度，高有效鍍膜面積不銹鋼載板設計
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HJT高效電池大產(chǎn)能低碎片率的PVD腔體結(jié)構(gòu)設計
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強磁低溫高濺射率的PVD陰極結(jié)構(gòu)設計
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快速均勻的加熱單元設計
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低薄膜不均勻性的PVD陰極腔體設計
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在線PVD高速快節(jié)拍的高品質(zhì)TCO薄膜鍍膜技術(shù)
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全生命周期動態(tài)閉環(huán)控水系統(tǒng)
工藝流程
工序四：絲網(wǎng)印刷
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異質(zhì)結(jié)高效電池絲網(wǎng)印刷整線設備 MX-HDL
該套設備使用絲網(wǎng)印刷的方式在電池正背面印刷銀漿，形成金屬電極，并進行測試、固化光衰。
設備參數(shù)
設備優(yōu)勢
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兼容MES、UPS和RFID功能
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高精度、大產(chǎn)量半片機臺
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整線配置無人自動化
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整線邁為自制，包括檢測設備
工藝流程
